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Résumé  

On associe un faisceau d'ions de basse énergie (abraseur ionique) à un ensemble de microanalyse par observation directe des réactions nucléaires. Le système permet de tracer des profils de concentration par abrasion-comptage. Les résultats obtenus concernent: (a) la mesure des profils d'impureté (bore, phosphore) dans le silicium et le ZnTe. (b) l'étude de la diffusion de l'oxygène sous un flux de neutrons dans le niobium et le nickel.

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Abstract  

The determination of phosphorus is presented using the31P(p, α)28Si reaction. The principle of the method and the instrumentation are discussed as well as the precision, sensitivity and the influence of the target thickness. The method is especially suitable for the investigation of diffusion phenomena. The concentration profiles are shown in silicon samples for various times of pretreatment. The interpretation of the profiles is given.

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